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    2020年光刻機產業市場規模及競爭格局分析

    2020-12-14

            中商情報網訊:隨著光源、曝光方式不斷改進,光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。第五代光刻機主要采用的是EUV光源,波長為13.5nm,制程節點僅為7-3nm。目前行業內使用最多的是第四代浸入式光刻機,最高制程可達7nm,在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級的EUV光刻機。
      


      數據顯示,2016-2018年,全球IC制造前道光刻機全球銷量整體處于上升趨勢,2018年全球出貨量達到374臺。2019年出貨量略有下降,全年為359臺。
      

      
      從競爭格局來看,目前,全球光刻機市場的主要企業即ASML,尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家,從光刻機銷售額來看,2019年三家企業的合計市場份額就占到了全球光刻機市場的90%以上。
      
      值得一提的是,荷蘭ASML公司的主要產品為各級別的光刻機,2019年阿斯麥銷售了229臺光刻機,其中占比最大的是ArFi光刻機,且市場占比高達88%;其次是KrF光刻機,市場占比高達71%。值得注意的是,ASML公司的EUV光刻機的市場占比達到了100%,完全壟斷了整個市場。
      
      尼康:光刻機領域曾經的世界第一,后被ASML所超越。目前公司主要為中高端機型,包括ArF、KrF、KrF、i-line光源。在ASML之后才推出浸入式光刻機,但是已經落后于ASML。而佳能專注于低端產品,只有i-line和Kr-F光刻機,沒有浸入式光刻機,現在佳能已逐漸減少在半導體光刻機領域的投資,轉向面板光刻機領域。
      
      
      從產品結構來看,2019年,全球EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line光刻機的出貨量分別為26、93、35、103、102臺。2019年ASML、尼康、佳能的光刻機出貨量分別為229、46、84臺
      
      
      在國產光刻機領域中,上海微電子(SMEE)一枝獨秀。其產品主要采用ArF、KrF和i-line光源,目前只能達到90nm制程,且主要用于IC的后道封裝和面板領域。SMEE作為國內最領先的光刻機研發企業,有非常多的光刻工藝人才,在產業鏈還未成熟的國內光刻機行業中,人才優勢是主要核心競爭力。作為芯片行業的上游,目前國內還未出現能制造出能滿足芯片行業需求的企業,而有著眾多光刻工藝人才的SMEE,自然而然就成為最有競爭優勢的企業。
      
      2020年6月初,上海微電子宣布將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產浸入式光刻機,國產光刻機有望從此前的90nm工藝一舉突破到28nm工藝。
      
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